高速昇温-降温加熱に最適です。光源にハロゲンランプを使用し、反射鏡に工夫を加え超高真空中でも反応ガス雰囲気中でも1000℃加熱が出来ます。真空アニール装置、CVD装置、レーザーアブレーション(PLD)装置等に使われております。また、メンテナンスが容易で安価である特徴を有しています。 ランプ加熱機構を組み込んだ装置
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